Выбор места установки очистной системы

Санитарно-защитные зоны очистных сооружений систем водоотведения малоэтажной жилой застройки в зависимости от производительности и типа сооружений в соответствии со СНиП 2.04.03.03-85 необходимо принимать 50 м- для аэрационных установок на полное окисление, производительностью до 700 м3/сут. Согласно СанПиН 2.2.1/2.1.1.1200-03 санитарно-защитная зона для локальных очистных сооружений производительностью до 200 м3/сут. уменьшена и составляет 15м. Минимальное расстояние от жилых строений до очистной системы БИОКСИ производительностью до 15 м3/сут должно быть 5м. В особых случаях, возможно и менее. При работе станция не выделяет вредные примеси, способные загрязнять атмосферный воздух и водоёмы. В результате проведённых исследований установлено, что санитарно-защитная зона для очистных систем БИОКСИ, производительностью до 17 м3/сут., не требуется. (Экспертное заключение №196/н-6 от 22 февраля 2008 г . Федерального агентства по здравоохранению и социальному развитию ГОУ ДПО Санкт-Петербургской медицинской академии последипломного образования. САНИТАРНО-ЭПИДЕМИОЛОГИЧЕСКОЕ ЗАКЛЮЧЕНИЕ №78.01.03.000.Т.001982.06.08 от 05.06.2008г.)

При выборе места установки проточной очистной системы необходимо учитывать возможность отвода очищенной воды.
Расстояние от жилого строения до места сброса очищенной воды, фильтрационной или рассасывающей траншеи, при производительности:

1 м3/сут-8м; 2 м3/сут-10м; 4 м3/сут-15м; 8 м3/сут-20м; 15 м3/сут-25м.

При выборе места установки очистной системы необходимо учитывать рельеф местности и возможность прокладки подводящей канализационной трубы с уклоном 1-2% в сторону очистной системы с таким расчётом, чтобы к месту монтажа труба подошла на допустимой для данной модели глубине. Но при этом не следует устанавливать очистную систему в нижней точке рельефа (яме), где при таянии снега или сильных осадках уровень воды может подняться выше 10 см над поверхностью земли и затопить, либо перегрузить очистную систему.
Необходимо предусмотреть подвод электроэнергии.